Tantalum carbide (TaC)he rauemi uku teitei teitei te pāmahana me nga painga o te ira whakarewa teitei, te pakeke teitei, te pai o te matū matū, te kaha hiko me te waiariki, me era atu.paninga TaCKa taea te whakamahi hei paninga ablation-aukati, whakakikorua-atete, me te kakahu-atete paninga, me te whakamahia whānuitia i roto i te tiaki waiariki Aerospace, tuatoru-whakatupuranga semiconductor tipu karaihe kotahi, hiko hiko me etahi atu mara.
Tukanga:
Tantalum carbide (TaC)Ko te ahua o nga taonga karaima tino teitei o te pāmahana me nga painga o te ira whakarewa teitei, te pakeke teitei, te pai o te matū matū, te kaha o te hiko me te waiariki. No reira,paninga TaCKa taea te whakamahi hei paninga ablation-aukati, whakakikorua-atete, me te kakahu-atete paninga, me te whakamahia whānuitia i roto i te tiaki waiariki Aerospace, tuatoru-whakatupuranga semiconductor tipu karaihe kotahi, hiko hiko me etahi atu mara.
Te ahuatanga o roto o nga paninga:
Ka whakamahi matou i te tikanga slurry-sintering ki te whakariteTaC paningahe rereke te matotoru i runga i nga taputapu kauwhata he rereke te rahi. Tuatahi, ka whirihorahia te paura parakore kei roto i te puna Ta me te puna C me te dispersant me te here hei hanga i te slurry precursor rite me te pumau. I te wa ano, kia rite ki te rahi o nga wahi graphite me nga whakaritenga matotoru opaninga TaC, ka rite te paninga o mua ma te pupuhi, te ringihia, te whakauru me etahi atu momo. Ka mutu, ka whakawerahia ki runga ake i te 2200 ℃ i roto i te taiao korehau hei whakarite i te kakahu kakahu, te kiko, te wahanga kotahi, me te kirikiri pai.paninga TaC.
Te ahuatanga o roto o nga paninga:
Ko te matotoru opaninga TaChe tata ki te 10-50 μm, ka tipu nga kakano i roto i te tuunga kore utu, a he mea tito mai i te TaC me te waahanga-a-waa-a-waahanga-a-kanohi te hangahanga putorino, kaore he poke; he mātotoru te paninga, kua oti te hanganga, he tiketike te tioata.paninga TaCKa taea e ia te whakakii i nga pores i runga i te mata o te graphite, a ka herea matū ki te matrix graphite me te kaha hononga nui. Ko te ōwehenga o Ta ki te C i roto i te paninga he tata ki te 1:1. Ko te GDMS parakore tohutoro tohutoro paerewa ASTM F1593, te kukū poke he iti iho i te 121ppm. He 662nm te inenga tikanga tatau (Ra) o te tohu paninga.
Taupānga Whānui:
GaN meSiC epitaxialKo nga waahanga reactor CVD, tae atu ki nga kaikawe angiangi, nga rīhi amiorangi, nga upoko kaukau, nga uhi o runga me nga kaitarai.
SiC, GaN me te AlN nga waahanga whakatipu karaihe, tae atu ki nga parapara, nga kaipupuri karaihe purapura, nga kaiarahi rere me nga whiriwhiringa.
Ko nga waahanga ahumahi, tae atu ki nga huānga whakamahana whakawera, nga puha, nga mowhiti whakamarumaru me nga taputapu whakawera.
Āhuatanga matua:
Te pumau o te pāmahana i te 2600 ℃
Ka whakarato i te whakamarumaru-tuuturu i nga taiao matū kino o H2, NH3, SiH4me Si kohu
He pai mo te hanga papatipu me nga huringa whakaputa poto.
